一、 計畫目標
為扣合六大核心戰略產業推動方案「資訊及數位產業」政策，國內需積極發展以化合物半導體為核心的高效率能源轉換與應用技術。其中，建立化合物半導體設備自製能力是國家發展的戰略目標之一，對比國外碳化矽主導廠商已投入8吋碳化矽相關設備技術研發，因此協助國內潛力廠商加速布署8吋碳化矽關鍵製程設備技術，並輔以單點突破，逐步達成國內化合物半導體設備自製能力。
二、 審查重點(包含成效指標)
(一) 技術層級：
(1)技術基礎規範：是否適用於6/8吋共用碳化矽晶圓高溫離子佈植製程、6/8吋共用碳化矽半導體in-line製程、6/8吋共用碳化矽晶錠加工製程，技術規格指標是否符合補助範圍。
(2)技術自主性：是否有其他創新技術及具備媲美或超越國際業者之製程技術能力，足以展現企業自主製造能量且符合客戶端品質使用需求。
(二) 市場價值：
(1)設備核心價值：受補助之設備市場價值、是否切入重點產業領域、結案後可否提升營業指標成長率、功能技術亮點可否產生產業帶動效果。
(2)市場競爭能力：受補助業者是否具有市場接單能力、輸出之設備總價值，設備預計出貨之客戶是否具市場指標性，後續預期訂單及擴散效益。
(三) 計畫可行性：設備在晶片製造廠、客戶端或第三方使用端測試場域地點，驗證規劃(包含設備廠內及使用端場域)、進行期間、進行方式、預期成果、結案後之投資規劃，計畫書完整性、查核點及結案驗收規劃可行性、經費編列合理性，團隊組成及執行經驗等是否進行詳細說明。
三、 申請資格：單一企業或聯合多家企業提出申請須符合以下資格：
(一) 國內依法登記成立之獨資、合夥、有限合夥事業或公司。
(二) 非屬銀行拒絕往來戶，且淨值（股東權益）為正值。
(三) 不得為陸資投資企業(依經濟部投資審議司公布之最新陸資來臺投資事業名錄)。